使用させていただいている共同研究先設備

マグネトロンスパッタ
（高誘電率材料用（アルミナ）
高出力ポンプを購入し更に高性能になりました。
現在はボンベは専用台に固定されています

532nmグリーンレーザー
奈良先端大

マイクロプローバー（シールド付）

リン、ボロンの拡散炉　各1つ
熱酸化炉
H2ガスアニール用
LPCVD

ダイシングソー

　C-V測定装置
（HP　4284A）

グラフェン用熱CVD

マスクアライナー（微細加工用）

2013年度に科研費（若手B）に採択されました。
グラフェンのCVDと電源を購入

学校全体の施設はこちら

マスクアライナー（汎用）

トランジスタ特性評価装置
（I-V、C-V、電源装置）

　マグネトロンスパッタ装置
（金属用）

ビーカー、薬品庫

微分干渉顕微鏡

抵抗線加熱蒸着措置（アルミ用）

レジスト塗布装置
（乾燥炉、スピンコーター）