| 場所 | 龍谷大学 響都ホール |
| タイトル | プロセスガスの制御による単層および多層グラフェンの作り分け技術 |
| 著者 | 松原暉、市川和典、赤松浩、須田善行 |
| タイトル | Ni薄膜の熱窒化によるNi窒化物半導体の作製と電子デバイス応用 |
| 著者 | 佐々木凱生、松原暉、市川和典、赤松浩 |
バンケット入り口にて
ポスターセッションの様子
| 第11回薄膜材料デバイス研究会にて学会発表を行いました。 佐々木君は初めての学会発表でしたがうまく発表してくれました。 |
| 第11回薄膜材料デバイス研究会で発表 （10/31-11/1） |
